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影響涂層測(cè)厚儀測(cè)量值精度的各種因素
日期：2025-12-18 06:55
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摘要：
1、基質(zhì)金屬磁特性
磁法厚度受基體金屬磁性變化(在實(shí)踐中,這一變化的低碳鋼磁可以被認(rèn)為是一個(gè)輕微的),為了避免影響熱處理、冷加工的因素,應(yīng)使用金屬試樣基體具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)的涂層厚度量測(cè)儀校準(zhǔn);
也可以用于涂層試件校準(zhǔn)。
2、基本金屬的厚度
每一種儀器有一個(gè)臨界厚度的賤金屬。
大于厚度量測(cè)不受厚度的賤金屬。
3、賤金屬電氣性能
對(duì)…有影響的導(dǎo)電性基體金屬和賤金屬的電導(dǎo)率有關(guān),其材料組成和熱處理。
使用金屬試樣基體具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)儀器校準(zhǔn)。
4、邊緣效應(yīng),
涂層測(cè)厚儀靈敏度的陡變的標(biāo)本的表層形狀。
所以靠近試樣在邊緣或角落措施是不可靠的。
5、曲率
標(biāo)本的曲率影響量測(cè)。
這種影響是一直增加的曲率半徑減少明顯。
因此,在量測(cè)彎曲試樣表層是不可靠的。
6、變形的試樣
量測(cè)頭可以使軟涂層試樣變形,因此一個(gè)可靠的數(shù)據(jù)對(duì)這些標(biāo)本量測(cè)。
7、表層粗糙度
基質(zhì)金屬和表層粗糙度量測(cè)的涂層。
粗糙度的增加,增加的影響。
粗糙表層會(huì)引起系統(tǒng)誤差和隨機(jī)誤差,每次量測(cè),應(yīng)該增加數(shù)量的量測(cè)在不同的位置,克服隨機(jī)誤差。
如果矩陣金屬粗糙,還必須相似矩陣沒有涂層粗糙的金屬樣品需要幾個(gè)零位校準(zhǔn)的涂層測(cè)厚儀;
或者沒有腐蝕到金屬基體溶液去除蓋,然后檢查了零。
8、磁場
在各種強(qiáng)烈的磁場所產(chǎn)生的電氣設(shè)備,會(huì)嚴(yán)重干擾磁性測(cè)厚的方法。
9、膠粘材料
儀器的量測(cè)頭的阻塞密切接觸涂層表層粘附材料的敏感,因此,必須轉(zhuǎn)移到材料,確保儀器量測(cè)頭和被直接接觸表層的測(cè)試。
10、量測(cè)頭的壓力
壓力強(qiáng)加的探針在樣品尺寸會(huì)影響量測(cè)的讀數(shù),因此,保持壓力恒定。
11、量測(cè)頭取向
的放置探針方法量測(cè)有影響。
在量測(cè)中,應(yīng)保持探針和樣品表層垂直。
磁法厚度受基體金屬磁性變化(在實(shí)踐中,這一變化的低碳鋼磁可以被認(rèn)為是一個(gè)輕微的),為了避免影響熱處理、冷加工的因素,應(yīng)使用金屬試樣基體具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)的涂層厚度量測(cè)儀校準(zhǔn);
也可以用于涂層試件校準(zhǔn)。
2、基本金屬的厚度
每一種儀器有一個(gè)臨界厚度的賤金屬。
大于厚度量測(cè)不受厚度的賤金屬。
3、賤金屬電氣性能
對(duì)…有影響的導(dǎo)電性基體金屬和賤金屬的電導(dǎo)率有關(guān),其材料組成和熱處理。
使用金屬試樣基體具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)儀器校準(zhǔn)。
4、邊緣效應(yīng),
涂層測(cè)厚儀靈敏度的陡變的標(biāo)本的表層形狀。
所以靠近試樣在邊緣或角落措施是不可靠的。
5、曲率
標(biāo)本的曲率影響量測(cè)。
這種影響是一直增加的曲率半徑減少明顯。
因此,在量測(cè)彎曲試樣表層是不可靠的。
6、變形的試樣
量測(cè)頭可以使軟涂層試樣變形,因此一個(gè)可靠的數(shù)據(jù)對(duì)這些標(biāo)本量測(cè)。
7、表層粗糙度
基質(zhì)金屬和表層粗糙度量測(cè)的涂層。
粗糙度的增加,增加的影響。
粗糙表層會(huì)引起系統(tǒng)誤差和隨機(jī)誤差,每次量測(cè),應(yīng)該增加數(shù)量的量測(cè)在不同的位置,克服隨機(jī)誤差。
如果矩陣金屬粗糙,還必須相似矩陣沒有涂層粗糙的金屬樣品需要幾個(gè)零位校準(zhǔn)的涂層測(cè)厚儀;
或者沒有腐蝕到金屬基體溶液去除蓋,然后檢查了零。
8、磁場
在各種強(qiáng)烈的磁場所產(chǎn)生的電氣設(shè)備,會(huì)嚴(yán)重干擾磁性測(cè)厚的方法。
9、膠粘材料
儀器的量測(cè)頭的阻塞密切接觸涂層表層粘附材料的敏感,因此,必須轉(zhuǎn)移到材料,確保儀器量測(cè)頭和被直接接觸表層的測(cè)試。
10、量測(cè)頭的壓力
壓力強(qiáng)加的探針在樣品尺寸會(huì)影響量測(cè)的讀數(shù),因此,保持壓力恒定。
11、量測(cè)頭取向
的放置探針方法量測(cè)有影響。
在量測(cè)中,應(yīng)保持探針和樣品表層垂直。